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我復(fù)現(xiàn)的內(nèi)容如下1，x偏振波垂直入射時，仿真了反射波中x偏振分量與y偏振分量的反射系數(shù)2，x極化波入射時，反射波中x分量與y分量的相位差。這里除了comsol，還需要用到matlab才能復(fù)現(xiàn)出下圖。具體的matlab代碼及操作步驟在下方的付費內(nèi)容里有。

電場的S分量為E在與入射平面垂直的光軸方向上的分量，P分量為E在入射平面上的分量。入射平面包含光線傳播向量和表面在入射點處的法向量。需要注意的是：光線在垂直表面入射時，該定義方式會變得模糊。因此我們可以看出，P和S偏振態(tài)的定義與表面相關(guān)。如果在表面上添加了鍍膜，則光線透過的比例會根據(jù)系統(tǒng)設(shè)置中偏振的參考方式不同而顯著變化。

電場的S分量為E在與入射平面垂直的光軸方向上的分量，P分量為E在入射平面上的分量。入射平面包含光線傳播向量和表面在入射點處的法向量。需要注意的是：光線在垂直表面入射時，該定義方式會變得模糊。因此我們可以看出，P和S偏振態(tài)的定義與表面相關(guān)。如果在表面上添加了鍍膜，則光線透過的比例會根據(jù)系統(tǒng)設(shè)置中偏振的參考方式不同而顯著變化。

在第一塊晶體中，光軸方向與局部Z軸一致，因此不同偏振態(tài)光線的折射率相同。需要注意的是，在雙折射介質(zhì)中S偏振所在的平面與晶軸垂直，P偏振所在平面與晶軸平行。因此當光線沿晶軸方向入射時，兩偏振態(tài)的光無法區(qū)分。在第二塊晶體中，晶軸方向與局部X軸重合，S偏振態(tài)仍然與晶軸方向垂直，P偏振態(tài)與晶軸平行。

</p><p>當<span style="color: rgb(18, 18, 18);">晶體內(nèi)的入射光的波矢量k沿著x方向時，此時k垂直于光軸，y偏振入射光的傳播速度與z偏振入射光的傳播速度顯然不同。</span></p><p><span style="color: rgb(18, 18, 18);">定義改變k的方向傳播速度不變的偏振光為o光，另一束偏振光傳播速度隨著k變化而變化的為e光。

以一個點物體為例，它位于具有P狀態(tài)通過鍍層的平面前方一定距離處；來自該點的光被定義為具有初始偏振態(tài)Jx=0，Jy=1。使用X或Y軸參考，通過系統(tǒng)傳輸（或阻擋）的S和P偏振光的量在整個表面上顯著變化。這是因為在表面上的所有入射點，輸入偏振Jx和Jy分別保持平行于全局X軸和Y軸。

以一個點物體為例，它位于具有P狀態(tài)通過鍍層的平面前方一定距離處；來自該點的光被定義為具有初始偏振態(tài)Jx=0，Jy=1。使用X或Y軸參考，通過系統(tǒng)傳輸（或阻擋）的S和P偏振光的量在整個表面上顯著變化。這是因為在表面上的所有入射點，輸入偏振Jx和Jy分別保持平行于全局X軸和Y軸。

在第一塊晶體中，光軸方向與局部Z軸一致，因此不同偏振態(tài)光線的折射率相同。需要注意的是，在雙折射介質(zhì)中S偏振所在的平面與晶軸垂直，P偏振所在平面與晶軸平行。因此當光線沿晶軸方向入射時，兩偏振態(tài)的光無法區(qū)分。在第二塊晶體中，晶軸方向與局部X軸重合，S偏振態(tài)仍然與晶軸方向垂直，P偏振態(tài)與晶軸平行。

x方向偏振的高斯光束從下往上入射到超表面，能夠輸出一個渦旋光。計算的內(nèi)容和結(jié)果：1、對幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)r和h進行掃描，得到透射光電場和相位變化情況。左：文獻中的結(jié)果；右：本案例的結(jié)果??2、對于文中編號為A1~A8的八個尺寸不同的單元構(gòu)成的超表面，利用平面線偏振入射，正交方向透射光的振幅和相位改變。

當TM波入射時，它在y,x兩個方向有電場分量，會促使電子沿著y，x兩個方向跑，對于x方向，是金，電子容易跑起來，對于y方向，電子要從金跑到水中，那么就沒那么容易了（我是把這種現(xiàn)象類比為半導(dǎo)體中異質(zhì)結(jié)，能壘，逸出功），既然電子跑不到水中去，但是y方向的電場分量又要推著電子往y方向跑，那么電子怎么辦呢？

在第一塊晶體中，光軸方向與局部Z軸一致，因此不同偏振態(tài)光線的折射率相同。需要注意的是，在雙折射介質(zhì)中S偏振所在的平面與晶軸垂直，P偏振所在平面與晶軸平行。因此當光線沿晶軸方向入射時，兩偏振態(tài)的光無法區(qū)分。在第二塊晶體中，晶軸方向與局部X軸重合，S偏振態(tài)仍然與晶軸方向垂直，P偏振態(tài)與晶軸平行。

X軸沿著膜層表面，與Z軸一起定義入射面。原點是Z軸與前表面面或入射面的交點。我們通常將入射面可視化為顯示系統(tǒng)的平面，Y軸垂直于顯示器，并向外指向觀察者。 在垂直入射時，對線性偏振方向影響，因此我們將入射波中的電場的正方向設(shè)置為沿著正y軸。相同的慣例適用于反射波和透射波。

正如所預(yù)期的，來自光源的光線具有隨機偏振態(tài)（圖2，左）。 追跡從x偏振片到探測器的光線后，產(chǎn)生了一個新的偏振點圖，這可以證實只有x偏振光分量穿過了偏振片（圖2，右）。 圖2.偏振點圖。左邊：進入x偏振片之前的隨機偏振光。右邊：通過偏振片光線的x偏振分量，y偏振分量由偏振片吸收。在任意偏振入射的條件下，探測器會收集大約50%的入射光功率。

編輯偏振分析器 -入射光束的偏振狀態(tài)可以根據(jù)以下坐標系來定義。a. 光柵的坐標系b.光源的坐標系c.P-S坐標系 d.TE-TM坐標系 偏振方向 a．光柵坐標系瓊斯矢量分別描述了沿光柵組件的X軸和Y軸的電場。 b．光源坐標系 瓊斯矢量分別描述了沿光源X軸和Y軸的電場。

Z軸垂直于膜層表面，其正方向與入射方向一致。X軸沿著膜層表面，與Z軸一起定義入射面。原點是Z軸與前表面面或入射面的交點。我們通常將入射面可視化為顯示系統(tǒng)的平面，Y軸垂直于顯示器，并向外指向觀察者。 當我們討論偏振時，我們經(jīng)常提到線偏振或平面偏振、圓偏振和橢圓偏振。在計算中，所有這些偏振被表示為兩個正交線偏振的組合，其可以單獨計算并且在透射或反射中的取向不變。

橢圓偏振儀的基本原理 當線偏振光(分解為一個偏振平行(??p,i)和一個垂直于入射面(??s,i)的波)與電介質(zhì)相互作用時，偏振態(tài)會發(fā)生變化。從入射波和反射(或透射)波之間的相移(??)，以及反射(或透射)振幅的比值(tan(??))，可以推導(dǎo)出介質(zhì)的介電特性(??, ??)。

定制層厚度用戶可以在反射偏振器模型中指定每層的厚度。厚度分布可以是均勻的，也可以按照線性或指數(shù)分布變化。附加資源相關(guān)出版物1.Y. Li, T. X. Wu and S. -T.

非錐形入射的偏振方向 瓊斯矢量分別描述了沿光源X軸和Y軸的電場。

瓊斯矢量分別描述了沿光源X軸和Y軸的電場。

正如所預(yù)期的，來自光源的光線具有隨機偏振態(tài)（圖2，左）。追跡從x偏振片到探測器的光線后，產(chǎn)生了一個新的偏振點圖，這可以證實只有x偏振光分量穿過了偏振片（圖2，右）。圖2.偏振點圖。左邊：進入x偏振片之前的隨機偏振光。右邊：通過偏振片光線的x偏振分量，y偏振分量由偏振片吸收。在任意偏振入射的條件下，探測器會收集大約50%的入射光功率。